小林正治准教授(平本・小林研、生産技術研究所)が3月4日(水)に丸文財団による令和元年度丸文研究奨励賞を受賞しました。授賞理由はHfO2系強誘電体を用いた次世代集積回路素子の研究」で、次世代強誘電体メモリーに着目した研究が評価されました。
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